专利名称：一种气相沉积系统专利类型：发明专利
发明人：魏斌,胡祥龙,戴煜,周岳兵申请号：CN201811428861.4申请日：20181127公开号：CN109234703A公开日：20190118
摘要：本发明公开了一种气相沉积系统，包括反应炉、第一混合罐、第二混合罐，第一混合罐与反应炉相连通，第二混合罐与反应炉相连通，反应炉上连通有第一导气管和第二导气管，第一导气管用于反应炉内洗炉用气N的传输，第二导气管用于氮化硼沉积所需反应气体NH的输入，第一混合罐上连通有第三导气管，第三导气管用于氮化硼沉积所需反应气体BCl的输入，第二混合罐上连通有第四导气管，第四导气管用于碳化硅沉积所需反应气体CHSiCl的输入，第一混合罐与第二混合罐外连通有辅助用气H传输的第五导气管，第一混合罐与第二混合罐外连通有惰性用气Ar传输的第六导气管，本发明能够通过同一套设备实现氮化硼沉积与碳化硅沉积的先后进行，可以有效减小生产成本。
申请人：湖南顶立科技有限公司
地址：410005 湖南省长沙市长沙经济技术开发区星沙产业基地开元东路1318号综合楼606室
国籍：CN
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
代理人：罗满
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