专利名称：低蚀刻性光刻胶清洗剂专利类型：发明专利
发明人：史永涛,彭洪修,刘兵,曾浩申请号：CN200710039481.7申请日：20070413公开号：CN101286016A公开日：20081015
摘要：本发明公开了一种低蚀刻性光刻胶清洗剂，其含有：苯甲醇和/或其衍生物、季铵氢氧化物和二甲基亚砜。本发明的清洗剂可用于除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶(光阻)和其它残留物，且同时对于二氧化硅、铜等金属和低k材料等具有较低的蚀刻速率，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。
申请人：安集微电子(上海)有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
国籍：CN
代理机构：上海虹桥正瀚律师事务所
代理人：李佳铭
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