专利名称：适用于圆片光刻工艺的感应装置专利类型：实用新型专利发明人：史进,伍志军
申请号：CN201520929784.6申请日：20151120公开号：CN205193428U公开日：20160427
摘要：本实用新型公开了一种适用于圆片光刻工艺的感应装置，其包括有用于对圆片进行传输的上料装置；所述上料装置的前端部设置有感应支架，感应支架之上设置有接近开关，接近开关与上料装置彼此相对；采用上述技术方案的圆片光刻工艺的感应装置，其可通过接近开关替代传统圆盘感应装置所采用的光电感应，从而使得感应装置不受圆片表面粗糙度的影响，使得感应精度得以改善，以使得加工过程中的碎片现象得以显著改善。
申请人：苏州赛森电子科技有限公司
地址：215699 江苏省苏州市张家港市经济开发区港城大道与福新路交界西北侧
国籍：CN
代理机构：南京众联专利代理有限公司
代理人：顾进
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