专利名称：光栅的刻蚀控制方法及装置专利类型：发明专利发明人：曾理江,李立峰申请号：CN201910251220.4申请日：20190329公开号：CN109932769A公开日：20190625
摘要：本公开涉及一种光栅的刻蚀控制方法及装置。该方法包括：在光栅刻蚀过程中，实时确定待刻蚀光栅的衍射效率；根据衍射效率，判断是否满足停止刻蚀的条件；在满足停止刻蚀的条件时，控制停止刻蚀。本公开实施例，通过在光栅刻蚀过程中，监测待刻蚀光栅的实时衍射效率，并在根据衍射效率判断满足停止刻蚀的条件时，控制停止刻蚀，以实现对刻蚀过程的精确控制，从而能够有效提高刻蚀深度的精确度。
申请人：清华大学
地址：100084 北京市海淀区清华园1号
国籍：CN
代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：刘新宇
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